1. CW beam processing of silicon and other semiconductors
پدیدآورنده : / volume editor, James F. Gibbons
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه شهيد چمران (خوزستان)
موضوع : Silicon.,Ion implantation.,Ion bombardment.

2. Desorption Induced by Electronic Transitions DIET V :
پدیدآورنده : edited by Alan R. Burns, Ellen B. Stechel, Dwight R. Jennison.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Electron-stimulated desorption -- Congresses.,Physical organic chemistry.,Physics.
رده :
QC173
.
4
.
S94
E358
1993


3. Erosion and Growth of Solids Stimulated by Atom and Ion Beams
پدیدآورنده : edited by G. Kiriakidis, G. Carter, J.L. Whitton.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Surfaces (Physics)

4. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors, Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990


5. Ion Implantation in Semiconductors
پدیدآورنده : edited by Ingolf Ruge, Jürgen Graul.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Medicine.

6. Ion beam modification of materials
پدیدآورنده : editors, J.S. Williams, R.G. Elliman, M.C. Ridgway.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Electronics-- Materials-- Effect of radiation on, Congresses.,Ion bombardment, Congresses.,Materials-- Effect of radiation on, Congresses.,TECHNOLOGY & ENGINEERING / Electronics / Semiconductors.,TECHNOLOGY & ENGINEERING / Electronics / Solid State.

7. Ion implantation in semiconductors, silicon and germanium
پدیدآورنده : / James W. Mayer, Lennart Eriksson and John A Davies
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و موزه دانشگاه شهید بهشتی (تهران)
موضوع : Semiconductors,Ion bombardment
رده :
621
.
38152
Ma-I


8. Plasma-Surface Interactions and Processing of Materials
پدیدآورنده : edited by Orlando Auciello, Alberto Gras-Marti, Jose Antonia Valles-Abarca, Daniel L. Flamm.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Nuclear physics.,Physical organic chemistry.,Surfaces (Physics)
رده :
TA404
.
6
E358
1990


9. Proceedings of the International Congress on Catalysis, Philadelphia, Pennsylvania, 1956 /
پدیدآورنده : edited by Adalbert Farkas.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Catalysis, Congresses.,Chemistry, Physical and theoretical.,Catalysis.,Chemistry, Physical and theoretical.
رده :
QD505
.
F37
1956eb


10. Projected range statistics semiconductors and related materials
پدیدآورنده : Gibbons, James F
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع : ، Particle range )Nuclear physics(,، Ion bombardment,، Semiconductors,، Ion implantation
رده :
QC
793
.
3
.
E5
G5
1975


11. Structure-Property Relationships in Surface-Modified Ceramics
پدیدآورنده : edited by Carl J. McHargue, Ram Kossowsky, Wolfgang O. Hofer.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Physical organic chemistry.,Surfaces (Physics)
رده :
TA455
.
C43
E358
1989

